技術(shù)編號:7084237
提示:您尚未登錄,請點 登 陸 后下載,如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ,登陸完成后,請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本實用新型公開一種溝槽式肖特基半導(dǎo)體器件,其導(dǎo)電多晶硅體嵌入所述柵溝槽內(nèi),位于導(dǎo)電多晶硅體中下部的多晶硅中下部位于柵溝槽內(nèi)且與外延層之間設(shè)有第一二氧化硅氧化層;位于所述單晶硅凸臺內(nèi)并在溝槽四周側(cè)表面具有第二導(dǎo)電類型摻雜區(qū),此第二導(dǎo)電類型摻雜區(qū)頂部與外延層上表面之間具有重摻雜第二導(dǎo)電類型摻雜區(qū),相鄰肖特基勢壘二極管單胞各自的第二導(dǎo)電類型摻雜區(qū)之間且位于具有第一導(dǎo)電類型的外延分層,此外延分層深度小于所述第二導(dǎo)電類型摻雜區(qū)深度,此外延分層位于外延層上部且外延分層...
注意:該技術(shù)已申請專利,請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出,在未取得專利權(quán)人授權(quán)前,僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán),增加技術(shù)思路,做技術(shù)知識儲備,不適合論文引用。