技術編號：7106814
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。本發(fā)明涉及太陽能硅片，具體涉及一種。背景技術濕法刻蝕工藝是將刻蝕材料邊緣與下表面浸泡在腐蝕液內(nèi)進行腐蝕的方法。在單多晶硅太陽能電池片中使用該方法將電池片邊緣與下表面腐蝕掉一層，去除邊緣和下表面的N型硅，使得硅片的上下表面相互絕緣?，F(xiàn)有的電池片濕法刻蝕裝置包括刻蝕槽和滾輪傳輸裝置，刻蝕槽內(nèi)裝有刻蝕液，滾輪裝置均安裝在刻蝕槽內(nèi)，浸沒在刻蝕液中，太陽能硅片在滾輪上傳輸，完成刻蝕過程?，F(xiàn)有技術存在以下問題 1、反應槽的藥液容易蔓延到硅片上表面，硅片上表面邊緣腐...
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