技術編號：7110989
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。本發(fā)明涉及一種負性光致抗蝕劑組合物以及一種器件的圖案化方法，更具體而言，涉及一種負性光致抗蝕劑組合物以及使用該組合物的器件的圖案化方法，其中形成具有良好的倒錐形形狀(reverse taper profile)的具有高靈敏度的光致抗蝕劑圖案，由此不僅可以在器件制造過程中實現(xiàn)各種薄膜的有效圖案化，而且還便于在圖案化后移除光致抗蝕劑圖案。背景技術器件(例如發(fā)光二極管或DRAM)的方法包括圖案化各種薄膜的光刻方法。對于光刻方法，使用光致抗蝕劑組合物以及由光致抗蝕...
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