技術(shù)編號(hào)：7142649
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及集成電路和對(duì)它們進(jìn)行的用于制造半導(dǎo)體器件的處理。更具體地說，本發(fā)明提供了一種用于制造半色調(diào)移相掩模(half tone phaseshift mask)的方法，該半色調(diào)移相掩模用于制造例如動(dòng)態(tài)隨機(jī)訪問存儲(chǔ)器器件、靜態(tài)隨機(jī)訪問存儲(chǔ)器器件(SRAM)、專用集成電路器件(ASIC)、微處理器和微控制器、閃存器件和其他器件的先進(jìn)的集成電路。背景技術(shù) 集成電路或“IC”已經(jīng)從在單硅片上制造的少量互連器件發(fā)展到數(shù)百萬的器件。現(xiàn)在IC的性能和復(fù)雜度遠(yuǎn)遠(yuǎn)超過了最...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。