技術(shù)編號(hào)：7144841
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及紫外光/臭氧表面處理技術(shù)，更具體的說，涉及一種集紫外光/臭氧表面處理與電學(xué)性質(zhì)原位測(cè)試的真空設(shè)備。背景技術(shù)紫外光/臭氧表面處理技術(shù)能夠有效清除大多數(shù)金屬、半導(dǎo)體和絕緣材料的有機(jī)污染物，在材料生長(zhǎng)、表面改性和器件制備等基礎(chǔ)科研和產(chǎn)業(yè)應(yīng)用領(lǐng)域發(fā)揮著重要的作用。 這項(xiàng)技術(shù)起源于二十世紀(jì)七十年代，它最初為紫外光照射空氣或氧氣，并逐步發(fā)展為真空紫外清洗技術(shù)以進(jìn)一步降低空氣中水汽、二氧化氮等氣體對(duì)光化學(xué)反應(yīng)的影響；在規(guī)模上也從最初的小功率基片清洗設(shè)備向大功率...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。