技術(shù)編號(hào)：7170403
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒(méi)有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及一種半導(dǎo)體處理系統(tǒng)，尤其是涉及一種用于將反應(yīng)氣體供入反應(yīng)腔室內(nèi)的注氣裝置，所述反應(yīng)氣體用于對(duì)半導(dǎo)體基片進(jìn)行處理。背景技術(shù) 近年來(lái)，諸如等離子體處理系統(tǒng)或者磁控管濺射系統(tǒng)的半導(dǎo)體加工系統(tǒng)已經(jīng)被廣泛應(yīng)用于在半導(dǎo)體基片上執(zhí)行的顯微機(jī)械加工工藝中，來(lái)制造半導(dǎo)體器件或者平面顯示板。例如，等離子體增強(qiáng)型化學(xué)汽相沉積(PECVD)系統(tǒng)或者高密度等離子體CVD(HDP-CVD)系統(tǒng)已經(jīng)被廣泛用于通過(guò)化學(xué)汽相沉積(CVD)在基片上沉積一個(gè)材料層。磁控管濺射系統(tǒng)已經(jīng)...
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