技術(shù)編號(hào)：7178146
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒(méi)有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及光刻法系統(tǒng)，更具體地說(shuō)，涉及用于設(shè)計(jì)曝光裝置中的孔徑的模擬方法和系統(tǒng)以及在其上記錄模擬方法的記錄介質(zhì)。背景技術(shù) 光刻法是在半導(dǎo)體晶片上形成電路圖的過(guò)程并包括一系列諸如光致抗蝕涂層、曝光以及顯影的過(guò)程。隨著集成的半導(dǎo)體設(shè)備增加，與光刻法有關(guān)的各種技術(shù)繼續(xù)發(fā)展以便獲得高分辨率以及光刻法圖形的最佳焦深(DOF)。圖1示例說(shuō)明在其中執(zhí)行光刻法的常規(guī)投影曝光裝置。參考圖1，例如，沿光源11放置一對(duì)橢圓形反射鏡12，以及順序地將聚光透鏡13、飛孔透鏡14、聚...
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該專(zhuān)利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。