技術(shù)編號(hào)：7212326
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明是有關(guān)于半導(dǎo)體技術(shù)，特別是關(guān)于一種半導(dǎo)體及太陽能電池制程中，避免沉積厚膜發(fā)生脫層的技術(shù)。背景技術(shù) 沉積膜在后續(xù)的熱處理發(fā)生脫層的問題，困擾著半導(dǎo)體業(yè)界及其他使用沉積膜的相關(guān)應(yīng)用。上述問題的原因通常是沉積膜與其下層材料之間的接合力不足，而上述的問題會(huì)發(fā)生在沉積層的材質(zhì)與其下層材料相同或不同時(shí)。在后續(xù)的熱處理中例如升溫至近300℃或更高溫，沉積膜與其下層材料之間的接合力不足所導(dǎo)致的脫層型態(tài)例如為膜的剝離(peeling)、龜裂(cracking)及/或起...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。