技術(shù)編號(hào):7213769
提示:您尚未登錄,請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載,如果您還沒(méi)有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ,登陸完成后,請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及一種,特別是涉及一種用于清潔光刻裝置的一個(gè)或多個(gè)光學(xué)元件的方法。背景技術(shù) 光刻裝置是將期望的圖案施加到基底上通常是基底靶部上的一種裝置。光刻裝置例如可以用于集成電路(IC)的制造。在這種情況下,構(gòu)圖部件或者可稱為掩模或中間掩模版,它可用于產(chǎn)生形成在IC的一個(gè)單獨(dú)層上的電路圖案。該圖案可以被轉(zhuǎn)印到基底(例如硅晶片)的靶部上(例如包括一部分,一個(gè)或者多個(gè)管芯)。通常這種圖案的轉(zhuǎn)印是通過(guò)成像在涂敷于基底的輻射敏感材料(抗蝕劑)層上。一般地,單一的基底將...
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