技術(shù)編號：7214369
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本發(fā)明涉及圖案形成方法、器件及器件制造方法、電光學裝置和電子儀器。本申請對2003年5月28日提出的日本專利申請第2003-151284號、以及2004年4月20日提出的日本專利申請第2004-124211號主張優(yōu)先權(quán)，將其內(nèi)容引用在這里。背景技術(shù) 作為電子電路和集成電路等所用配線圖案等的形成方法，例如可以采用光刻法。這種光刻法需要真空裝置等大型設備和復雜工藝，而且材料的使用效率也僅為百分之幾，不得不幾乎將其廢棄，制造成本高。針對此問題，例如，如特開平11...
注意：該技術(shù)已申請專利，請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。