技術(shù)編號(hào)：7222061
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒(méi)有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。氧化劑用于半導(dǎo)體晶片處理的用途、為此的組合物的用途以及組合物本申請(qǐng)要求于2007年4月13日提交的歐洲專利申請(qǐng)?zhí)?7106168.3 的權(quán)益，該申請(qǐng)通過(guò)引用結(jié)合在此。本發(fā)明涉及用于半導(dǎo)體晶片處理(具體是用于半導(dǎo)體晶片的清潔和 化學(xué)機(jī)械拋光)的氧化劑的用途。本發(fā)明還涉及一種組合物的用途以及 因此涉及該組合物。那些半導(dǎo)體晶片以及金屬層的處理經(jīng)常需要使用清潔組合物來(lái)去除污染物，如有機(jī)物、小顆粒、重金屬以及其他來(lái)自半導(dǎo)體晶片和金屬 層表面的殘余物?；瘜W(xué)機(jī)械平面化(...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。