技術(shù)編號(hào)：7227853
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及半導(dǎo)體制造，特別涉及一種。技術(shù)背景集成電路制造工藝是一種平面制作工藝，其結(jié)合光刻、刻蝕、沉積、 離子注入等多種工藝，在同一襯底上形成大量各種類型的復(fù)雜器件，并 將其互相連接以具有完整的電子功能。其中，任何一步工藝出現(xiàn)偏差， 都可能會(huì)導(dǎo)致電路的性能參數(shù)偏離設(shè)計(jì)值。目前，隨著超大規(guī)模集成電 路的器件特征尺寸不斷地等比例縮小，集成度不斷地提高，對(duì)各步工藝 的控制及其工藝結(jié)果的精確度提出了更高的要求。以刻蝕工藝為例，集成電路制造中，常需要利用刻蝕技術(shù)形成...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。