技術(shù)編號(hào)：7237455
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒(méi)有賬戶(hù)請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及集成電路的制造，且特別是涉及一種用于光刻工藝中的自組裝感光層(Self-Assembled Photosensitive Layer)。 背景技術(shù)隨著半導(dǎo)體制造技術(shù)的持續(xù)進(jìn)步，目前已逐漸采用浸潤(rùn)式光刻工藝來(lái)實(shí)現(xiàn) 更小的特征尺寸，例如65nm、 45nm甚至更小的尺寸。然而在使用浸潤(rùn)式光刻 系統(tǒng)的曝光工藝中，污染物，例如微粒或水漬，會(huì)被引入到浸潤(rùn)光刻系統(tǒng)中， 進(jìn)而污染在此系統(tǒng)中進(jìn)行處理的半導(dǎo)體圓片。例如將光阻物質(zhì)引入浸潤(rùn)流體 中，就會(huì)造成此類(lèi)污染。...
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