技術(shù)編號(hào)：7242038
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒(méi)有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及。更詳細(xì)地說(shuō)，涉及用于取向膜所進(jìn)行的取向分割的。背景技術(shù)光掩模用于曝光基板上的感光性樹(shù) 脂層，在各種電子部件的制造中被有效利用。特別是，在用于制造液晶顯示面板的光取向法所進(jìn)行的取向膜曝光中被廣泛使用。取向膜曝光工藝是用于控制液晶分子的取向方向、形成限制取向膜的重要工藝，由此能制造視野角優(yōu)異的液晶顯示面板。例如使用如下手法使光掩模透射而從規(guī)定的方向照射光，由此對(duì)取向膜賦予液晶分子的取向限制力，而且，在下一工序中從不同方向有選擇地進(jìn)行取向膜的光照射，...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。