技術編號：7247550
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。一種回刻深度的監(jiān)控結構和監(jiān)控方法，該監(jiān)控結構為制作在晶圓非元件區(qū)上的表面截面為梯形的溝槽。該監(jiān)控方法為利用該梯形溝槽，得到溝槽內沉積物質在回刻工藝之后的分布拐點，根據(jù)該拐點位置，就可以判斷出回刻深度是否合格。由于本發(fā)明的監(jiān)控方法只需要簡單的輔助設備即可得到，因此相比原有的監(jiān)控手段，其成本大大降低，且操作簡單，結果準確，適合進行流水線式的在線監(jiān)控。另外本發(fā)明的監(jiān)控結構只在整個DMOS器件制作工藝的中間過程中出現(xiàn)，不會對最終產品產生任何負面影響，因而具備很好的...
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