技術(shù)編號：7250258
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本發(fā)明提供一種，該包括在基材（10）上利用噴墨法形成剝離材料（12）的工序；在基材及剝離材料上利用原子層沉積法形成功能膜（14）的工序；以及利用剝離法除去剝離材料而在基材上由功能膜形成圖案的工序。專利說明[0001]本發(fā)明涉及一種。背景技術(shù)[0002]通過在抗蝕圖案上利用原子層沉積法(ALD法；Atomic Layer Deposition)形成薄膜，并利用剝離法除去抗蝕圖案而形成圖案的方法已廣為人知(例如參照專利文獻I?4)。該方法通過在基板上涂布抗蝕劑...
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