技術(shù)編號：7253334
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明提供一種可提高被加工材料和抗蝕劑的蝕刻的選擇比的、通過該加工的藍(lán)寶石基板、及具備該藍(lán)寶石基板的發(fā)光元件。使用等離子蝕刻裝置的包括在被加工材料上形成抗蝕膜的抗蝕膜形成工序；在所述抗蝕膜上形成規(guī)定的圖案的圖案形成工序；將形成有所述圖案的所述抗蝕膜在規(guī)定的改質(zhì)用條件下暴露于等離子體，使所述抗蝕膜改質(zhì)而提高蝕刻選擇比的抗蝕劑改質(zhì)工序；將被加工材料在與改質(zhì)用條件不同的蝕刻用條件下暴露于等離子體，以提高了蝕刻選擇比的所述抗蝕膜為掩模，進(jìn)行被加工材料的蝕刻的被加工...
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