技術(shù)編號：7253468
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。一種反應(yīng)腔室包括用于處理襯底的上部區(qū)域、用于加載襯底的下部區(qū)域、可在反應(yīng)腔室內(nèi)移動(dòng)的承受器、定位在承受器周界上的第一密封構(gòu)件、定位在上部區(qū)域和下部區(qū)域之間的第二密封構(gòu)件，其中，第一和第二密封構(gòu)件有選擇地彼此嚙合，以限制上部區(qū)域和下部區(qū)域之間的連通。專利說明腔室密封構(gòu)件[0001]相關(guān)申請的交互參照[0002]本申請要求對2011年11月23日提交的美國專利臨時(shí)申請N0.61/563，232的優(yōu)先權(quán)益，本文以參見方式引入其披露內(nèi)容。 背景技術(shù) [0003...
注意：該技術(shù)已申請專利，請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲(chǔ)備，不適合論文引用。