技術(shù)編號：7254471
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。藉由熱隔離工藝環(huán)與靜電夾盤的隔離圓片，以及藉由提供熱傳導(dǎo)及電絕緣的熱環(huán)，來阻止半導(dǎo)體工藝環(huán)的不希望的加熱，其中該熱傳導(dǎo)及電絕緣的熱環(huán)接觸半導(dǎo)體工藝環(huán)及底層的金屬基底兩者，該底層的金屬基底具有內(nèi)部冷卻劑流動通道。專利說明具有冷卻工藝環(huán)與加熱工作件支撐表面的等離子體反應(yīng)器 靜電夾盤[0001] 相關(guān)申請案的交叉引用[0002] 本申請案主張由Michael D. Willwerth等人于2012年10月1日提出申請的標(biāo) 題為 "PLASMA REACTOR E...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。