技術(shù)編號：7259144
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明公開了一種半導(dǎo)體裝置、制作該半導(dǎo)體裝置的方法及使用的掩模，該半導(dǎo)體裝置包括至少一第二場區(qū)，包括一主晶粒陣列，每一晶粒具有一高度Y1以及一寬度X1，且該主晶粒陣列具有一高度Y3；該半導(dǎo)體裝置更可包括至少一第一場區(qū)，包括具有一高度Y2及一寬度X2的一監(jiān)視區(qū)，以及具有一高度Y2且包括一輔助晶粒陣列的一輔助晶粒區(qū)。各區(qū)的尺寸可互相成比例，使得X2＝n1×X1+adjustment1、Y2＝n3×Y1+adjustment3以及Y3＝n4×Y2+adjustm...
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