技術(shù)編號：7264840
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本發(fā)明公開了一種用ICP干法刻蝕對ITO表面進行粗化處理的方法；首先將外延片清洗干凈，隨后將其固定于蒸鍍機內(nèi)，進行正常的ITO蒸鍍，待ITO蒸鍍完畢后，取出上述產(chǎn)品，同時將其置于ICP腔體內(nèi)，通入Ar氣，對ITO表面進行粗化處理；本工藝具有操作簡單可行，按照上述流程處理后的ITO表面粗糙度較高，光線從LED芯片內(nèi)部射出時，不易在ITO表面形成鏡面反射，極大的提高了LED芯片的出光效率。專利說明一種ITO表面粗化處理方法[0001]本發(fā)明涉及光電，尤其是一種...
注意：該技術(shù)已申請專利，請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。