技術(shù)編號：5046430
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及生產(chǎn)適用于氣體分離的碳膜的方法，以及可通過該方法獲得的碳膜。用于氣體分離的碳膜的用途是本身已知的。它利用了石墨的層間距，該層間距在3.35人處，在小的氣體分子尺寸的數(shù)量級內(nèi)。通過有機(jī)材料熱解合成的碳被稱作次晶碳，因?yàn)槠滹@示了與理想晶體結(jié)構(gòu)的較大或較小偏離。其具有小的周期環(huán)域，但顯示了 X射線漫反射并因此被稱作X射線無定形。玻璃狀微孔碳具有比結(jié)晶石墨(2.2g/cm3)較低的密度(1.2-1.6g/cm3)以及窄的孔徑分布。由于高比例的開孔率，碳作...
注意：該技術(shù)已申請專利，請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。