技術(shù)編號(hào)：7425032
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒(méi)有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明主要涉及到磁流變拋光設(shè)備領(lǐng)域，特指一種基于熵增原理抑制磁流變中高頻誤差 的裝置。背景技術(shù)確定性磁流變拋光技術(shù)是由美國(guó)Rochester大學(xué)COM光學(xué)加工中心首創(chuàng)，由美國(guó)QED公 司完成產(chǎn)品化的新一代光學(xué)零件高精度計(jì)算機(jī)控制光學(xué)表面成形技術(shù)(CCOS)。磁流變拋光技 術(shù)具有加工精度高、亞表面損傷小、適用范圍廣等優(yōu)點(diǎn)。但是由于確定性磁流變拋光使用了 比被加工元件外形尺寸小得多的拋光模(去除函數(shù))，在快速去除被加工表面低頻面形誤差的 同時(shí)，往往還會(huì)造成較多...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。