技術(shù)編號：8022928
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。技術(shù)領(lǐng)域本發(fā)明涉及成膜源、真空成膜裝置、有機(jī)EL元件的制造方法和有機(jī)EL元件。背景技術(shù) 作為在基板上形成薄膜的技術(shù)，公知有真空成膜法(包括真空蒸鍍、分子線外延法)。該真空成膜法通過將成膜材料加熱使其升華或蒸發(fā)而生成成膜材料的原子流或分子流，并使該原子流或分子流朝向配置在真空成膜室(真空容器)內(nèi)的基板的被成膜面噴射，由此使成膜材料附著在該被成膜面上并形成薄膜。實(shí)施這種真空成膜法的真空成膜裝置，一般基本上由成膜源和所述真空成膜室構(gòu)成，成膜源至少具有收容被稱為坩堝或單元的成膜材料的成膜材料容器；和加熱該成膜材料的加熱單元...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。