技術(shù)編號:8032378
提示:您尚未登錄,請點 登 陸 后下載,如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ,登陸完成后,請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。技術(shù)領(lǐng)域本發(fā)明涉及大型單晶體的高溫生長,特別涉及高質(zhì)量碳化硅單晶體生 長的方法和裝置。背景技術(shù)碳化硅經(jīng)常被用作一種半導(dǎo)體材料。碳化硅具有很寬的帶隙、很低的 介電常數(shù),并且在遠高于其它半導(dǎo)體材料如硅已變得不穩(wěn)定的溫度下仍 很穩(wěn)定。這些以及其它特征使碳化硅具有優(yōu)良的半導(dǎo)體特性。由碳化硅更高的溫度、更快的速度和更高的輻射密度下工作。那些對半導(dǎo)體固態(tài)物理學(xué)和性能都很熟悉的技術(shù)人員都知道半導(dǎo)體 材料必須具有特定的性質(zhì)才能用作電子設(shè)備的加工材料。在許多場合中, 所需的單晶體要求具有較低的晶格缺陷以及較低的化學(xué)和物理雜質(zhì)。如 果...
注意:該技術(shù)已申請專利,請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出,在未取得專利權(quán)人授權(quán)前,僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán),增加技術(shù)思路,做技術(shù)知識儲備,不適合論文引用。