技術編號：8033206
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。技術領域本發(fā)明涉及控制系統(tǒng)及方法，更具體地，涉及一種控制提供給等離子體負載的功率的方法和系統(tǒng)。背景技術 射頻或微波(以下簡稱“RF”)等離子體生成設備被廣泛應用于半導體和工業(yè)等離子體加工。等離子體加工支持許多種應用，包括從基板上蝕刻材料、將材料淀積到基板上、清洗基板表面、以及基板表面的改性。使用的頻率和功率電平可有很大不同，從約10KHz至10GHz，以及從幾瓦至100千瓦或更大。對于半導體加工應用，目前使用在等離子加工設備中的頻率和功率的范圍就稍微窄些，分別為從約10KHz至2.45GHz，以及從10W至30kW...
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