技術(shù)編號：8061245
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。技術(shù)領(lǐng)域本實用新型涉及一種單晶爐底盤。 背景技術(shù)目前使用的XA單晶爐由于爐底盤的電極孔之間的中心距為400mm，無法安裝更大直徑的加熱器，滿足75KG的投料量的需求。實用新型內(nèi)容本實用新型所要解決的技術(shù)問題是設(shè)計一種單晶爐底盤，滿足75KG的投料量的需求。本實用新型解決其技術(shù)問題所采用的技術(shù)方案是一種單晶爐底盤，爐底盤上具有電極孔，電極孔之間的中心距H為435mm。本實用新型的有益效果是通過對單晶爐底盤進行的改進，使得單晶爐內(nèi)可以安裝更大直徑的加熱器，放入更大的石英坩堝，達到增加投料量的目的，使得原先由于受底盤影響...
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該專利適合技術(shù)人員進行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。