技術(shù)編號(hào)：8063257
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。技術(shù)領(lǐng)域本發(fā)明有關(guān)于快速熱處理(RTP)系統(tǒng)，尤指一種用于快速熱處理系統(tǒng)的處理室的排氣壓力控制方法，其能夠更有效率地控制快速熱處理系統(tǒng)的排氣壓力。背景技術(shù) 近年來，快速熱處理系統(tǒng)的設(shè)備已臻完善。典型上，快速熱處理系統(tǒng)利用高強(qiáng)度光源以使置于處理室內(nèi)的基板快速加熱，而其原理主要是關(guān)于均勻地加熱半導(dǎo)體晶圓至適當(dāng)?shù)臏囟?，以及晶片在各種退火過程、化學(xué)反應(yīng)和不同過程的薄膜生長技術(shù)條件下，溫度與時(shí)間關(guān)系的測量及控制。為了達(dá)成均勻加熱的目的，有關(guān)快速熱處理系統(tǒng)的已知文獻(xiàn)研究的重點(diǎn)均著眼于加熱系統(tǒng)或加熱燈、或者處理室的熱處理的溫度控...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。