技術(shù)編號：8069350
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。專利摘要一種用以產(chǎn)生等離子的裝置，該裝置包括主等離子源(1)，其布置成產(chǎn)生等離子；中空導引本體(11)，其布置成將由主等離子源產(chǎn)生的等離子的至少一部分導引至副等離子源(25)；以及出口(14)，其用以自該裝置發(fā)射出至少一部分由該等離子產(chǎn)生的原子基團。專利說明等離子產(chǎn)生器技術(shù)領(lǐng)域[0001]本發(fā)明是關(guān)于一種用于移除污染沉積物的裝置及方法，并且尤其是關(guān)于一種用以去除污染沉積物的等離子產(chǎn)生器。背景技術(shù)[0002]污染會對帶電粒子光刻系統(tǒng)的精確度與可靠度造成負面影響。這樣的光刻系統(tǒng)內(nèi)的主要污染貢獻源是來自于污染沉積物的堆積...
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