技術編號：8106792
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。技術領域本發(fā)明涉及用于一種微波等離子體CVD裝置，該微波等離子體 CVD裝置用于形成例如金剛石薄膜、類金剛石碳薄膜和碳納米管這樣 的碳薄膜以及例如氧化硅薄膜、氮化硅薄膜和非晶硅薄膜這樣的硅薄 膜，該微波等離子體CVD裝置特別用于形成金剛石薄膜。背景技術化學氣相沉積(CVD)廣泛用于碳薄膜、特別是金剛石薄膜的形 成。以例如甲垸和氫氣為原料，通過如微波、熱絲、高頻或直流放電 這樣的原料氣體活化設備而形成作為金剛石前體的自由基，并且將金 剛石沉積在基材上。由于在天然存在的材料中金剛石具有最高的硬度，因此它們被用 于切割工...
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