技術(shù)編號(hào)：8122529
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。技術(shù)領(lǐng)域本發(fā)明涉及等離子天線以及含該天線的等離子處理裝置；更具體而言，涉及對(duì)大面積基板實(shí)施等離子工序處理的等離子處理裝置中使用的等離子天線的形狀。背景技術(shù)等離子處理裝置被廣泛使用于半導(dǎo)體基板、液晶顯示器的制造工序。等離子處理裝置通過使反應(yīng)氣體活化變?yōu)榈入x子狀態(tài)，用等離子狀態(tài)的反應(yīng)氣體的陽(yáng)離子或自由基(Radical)處理半導(dǎo)體基板的規(guī)定區(qū)域。 等離子處理裝置有用于薄膜蒸鍍的PECVD(Plasma EnhancedChemical VaporD印osition)裝置。通過蝕刻蒸鍍出的薄膜，使之圖形化的蝕刻裝置，濺射...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。