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      一種氣相外延設(shè)備進(jìn)行材料生長(zhǎng)的控制系統(tǒng)的制作方法技術(shù)資料下載

      技術(shù)編號(hào):8129924

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      技術(shù)領(lǐng)域本實(shí)用新型屬于半導(dǎo)體技術(shù)領(lǐng)域,涉及一種氣相外延設(shè)備進(jìn)行材料生長(zhǎng)的控制系統(tǒng),適用于目前HVPE(氫化物氣相外延)系統(tǒng)中精確控制氣相流量、溫度、壓力、運(yùn)行時(shí)間、石墨盤(pán)轉(zhuǎn)速和氣動(dòng)閥開(kāi)關(guān)等?!け尘凹夹g(shù)在多種GaN襯底生長(zhǎng)技術(shù)中,HVPE(氫化物氣相外延)以其高速率(可以達(dá)到800ym/h以上)生長(zhǎng)、低成本、可大面積生長(zhǎng)和均勻性好等顯著優(yōu)點(diǎn),成為GaN襯底生長(zhǎng)取得突破的首選,目前國(guó)內(nèi)外絕大多數(shù)研究工作都集中于此。HVPE生長(zhǎng)GaN襯底,通常是在藍(lán)寶石或砷化鎵等襯底上外延O. 5 Imm的厚膜,然后通過(guò)激光剝離、研磨或...
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