技術編號：8132319
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。技術領域本發(fā)明涉及一種微納米加工方法，尤其涉及。背景技術 目前，微納米加工技術方法主要有“自上而下”的高分辨技術和“自底而上”的直接組裝工藝[《微納米加工技術及其應用綜述》，崔錚，物理2006，1，34-37]。“自上而下”的方法發(fā)源于微電子技術中的常規(guī)光刻技術，這一方法是在基底材料表面通過光刻腐蝕制備所需的功能結構，主要包括基于光學和電子束曝光(EBL)的平面技術[[Pease，R.F.W.J.Vac.Sci.Technol.B1992，10，278-285]、[Pease，R.F.PatterningTechn...
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