技術(shù)編號：8139908
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。技術(shù)領(lǐng)域本發(fā)明涉及一種激光加工設(shè)備，其設(shè)備用于采用激光誘導(dǎo)化學(xué)氣相沉積或激光的 多晶硅(Polycrystalline silicon)等的退火，尤其涉及一種可控制激光束的長度及強度 的激光加工設(shè)備。背景技術(shù)在制造半導(dǎo)體、FPD及太陽能電池(solar cell)等時，若在高溫狀態(tài)下鍍膜 (depositing thin-film),會因熱化學(xué)反應(yīng)(Thermochemical reaction),造成反應(yīng)器 (Reactor)被污染或產(chǎn)生不必要的化合物等諸多問題。因此，正在采用激光誘導(dǎo)等離子化學(xué) 氣相沉積等，實現(xiàn)...
注意：該技術(shù)已申請專利，請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。