技術(shù)編號：8141609
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。技術(shù)領(lǐng)域本發(fā)明涉及一種在半導(dǎo)體制備過程中使用的等離子體反應(yīng)器。本發(fā)明尤其涉及 一種等離子體反應(yīng)器中的工件去除吸附設(shè)備及其工件去除吸附方法。相關(guān)技術(shù)描述通常，ESC(靜電吸盤)用于在等離子反應(yīng)器的反應(yīng)室里面吸附那些用來蝕刻或 沉淀的沉淀物的工件(例如，晶圓或玻璃基板)。當(dāng)為ESC提供吸力能源時(shí)，ESC通過 靜電產(chǎn)生的靜電吸力將工件吸附。為了讓蝕刻過程或沉淀過程順利進(jìn)行，工件必須穩(wěn)固的吸附在ESC上。例如， 在用于工件背面的冷卻氣體的氦氣(He)中，相當(dāng)于30托或更大的壓力下，工件必須能持 續(xù)地吸附在ESC上。因此，工...
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