技術(shù)編號(hào):8170626
提示:您尚未登錄,請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載,如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ,登陸完成后,請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。技術(shù)領(lǐng)域本發(fā)明涉及,其中半導(dǎo)體多層布線板具有將形成于半導(dǎo)體基板上的下層布線層,與在下層布線層的上面通過層間絕緣層形成的上層布線層,通過上下貫通上述層間絕緣層的通孔布線而連接的多層布線。更具體地講,涉及如下形成的,其中,在通過簡單的雙大馬士革工藝(dual damascence process)形成上述通孔布線與下層布線層以及上層布線層的同時(shí),在上述基板上從層間絕緣層的形成到上述布線層的形成,所有的層是通過濕法形成的。背景技術(shù) 眾所周知,在半導(dǎo)體集成電路方面,其基本的布線結(jié)構(gòu)是,將在半導(dǎo)體基板上直接或者間接地形成的下...
注意:該技術(shù)已申請(qǐng)專利,請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出,在未取得專利權(quán)人授權(quán)前,僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán),增加技術(shù)思路,做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備,不適合論文引用。