技術(shù)編號：8180125
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。技術(shù)領(lǐng)域本實用新型涉及硅片清洗技術(shù)領(lǐng)域，特別涉及一種等離子體放電裝置。背景技術(shù)在半導(dǎo)體生產(chǎn)中，清洗硅片表面光刻膠工藝占據(jù)了十分重要的環(huán)節(jié)，清洗的好壞直接影響器件的穩(wěn)定性和可靠性。在其他行業(yè)中，液晶玻璃平板、PCB板等材料表面除了需要清洗表面有機(jī)污染物外，還需要改善材料表面的親水性或疏水性。傳統(tǒng)清洗硅片表面的方式是采用濕法化學(xué)方法，濕法化學(xué)方法存在許多亟待解決的問題，例如清洗不夠徹底、清洗產(chǎn)生的廢液易對環(huán)境造成污染、采用溶液容易引進(jìn)雜質(zhì)、消耗大量的水和酸等。目前已經(jīng)出現(xiàn)了一種干法清洗裝置，這種清洗裝置工作在真空狀態(tài)下...
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