技術(shù)編號:8181843
提示:您尚未登錄,請點(diǎn) 登 陸 后下載,如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ,登陸完成后,請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。技術(shù)領(lǐng)域本發(fā)明涉及單晶的生長方法,特別是涉及一種采用物理氣相傳輸法通過生長模式調(diào)控實(shí)現(xiàn)AlN單晶生長的方法。背景技術(shù)氮化鋁(AlN)為直接帶隙半導(dǎo)體材料,具有禁帶寬度寬(6. 2eV)、擊穿場強(qiáng)高(1. 17X107V/cm)、體電阻率高(>1χ10ηΩ · cm)、電子遷移率高(IlOOcm2/ (V · S))、熱導(dǎo)率較高(3. 4ff/ (cm-K))以及所有半導(dǎo)體材料中最高的BHFM、KFM和JFM優(yōu)值指數(shù),還具有熱穩(wěn)定性好、耐腐蝕和耐輻射等優(yōu)良的物理和化學(xué)性能。氮化鋁具有所有III族氮化物晶體中最小...
注意:該技術(shù)已申請專利,請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出,在未取得專利權(quán)人授權(quán)前,僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán),增加技術(shù)思路,做技術(shù)知識儲備,不適合論文引用。