技術編號：8182097
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。技術領域本發(fā)明涉及一種用于連續(xù)式擴散爐的多層氣簾隔離裝置。背景技術擴散爐是集成電路生產(chǎn)線前工序的重要工藝設備之一。它的主要用途是對半導體進行摻雜，即在高溫條件下將摻雜材料擴散入硅片，從而改變和控制半導體內(nèi)雜質(zhì)的類型、濃度和分布，以便建立起不同的電特性區(qū)域。擴散爐的爐口如處于敞開狀態(tài)，會使得腔內(nèi)具有毒性的氣體容易泄漏到外界環(huán)境中，也將導致爐內(nèi)熱量向外擴散，增加擴散爐的熱量損失，從而導致額外增加擴散爐的加熱功率,并且擴散熱量會對室內(nèi)環(huán)境產(chǎn)生熱輻射。由于連續(xù)式擴散爐在工作過程中，送舟槳要不斷地進出爐管，機械爐門就需頻繁地...
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