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      曝光機(jī)的曝光方法技術(shù)資料下載

      技術(shù)編號(hào):8201615

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      技術(shù)領(lǐng)域本發(fā)明有關(guān)一種,旨在提供一種可對(duì)曝光平臺(tái)的特定區(qū)域進(jìn)行 曝光作業(yè),相對(duì)較不會(huì)產(chǎn)生聚熱現(xiàn)象,以及可以降低設(shè)備體積及成本的曝光機(jī),以及與其相 關(guān)的曝光方法。背景技術(shù)按,一般印刷電路板或半導(dǎo)體晶片在進(jìn)行曝光顯影制程時(shí),先在被加工物表面上 涂上一層光阻,再藉由光源的照射將原稿上的電路布線圖案映像至被加工物表面的光阻層 上,以使光阻層的化學(xué)性質(zhì)因光源的照射而產(chǎn)生變化,然后再利用去光阻劑將被光源照射 過(guò)的光阻或未經(jīng)曝光的光阻自被加工物表面去除,以形成對(duì)應(yīng)于原稿的線路布局。其中,用以執(zhí)行曝光顯影加工制程的曝光機(jī)基本結(jié)構(gòu)如...
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