技術(shù)編號：8253775
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。 本發(fā)明設(shè)及一種超精密位移測量技術(shù)及光柵位移測量系統(tǒng)，特別設(shè)及一種使用雙 頻激光和衍射光柵的=維位移測量裝置。背景技術(shù) 近年來，超精密測量已成為世界測量領(lǐng)域的研究熱點。考慮到測量范圍、精度、系 統(tǒng)尺寸和工作環(huán)境等因素的影響，用小體積多自由度的測量方法來實現(xiàn)高精度測量在現(xiàn)代 位移測量中的需求也越來越突出。在半導(dǎo)體加工領(lǐng)域，光刻機中的掩膜臺和工件臺的定位 精度和運動精度是限制半導(dǎo)體巧片加工線寬的主要因素，為了保證掩膜臺和工件臺的定位 精度和運動精度，光刻機中通...
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