技術(shù)編號(hào)：8253776
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及一種超精密位移測(cè)量技術(shù)及光柵位移測(cè)量系統(tǒng)，特別涉及一種基于衍射光柵的二維位移測(cè)量裝置。背景技術(shù)近年來，超精密測(cè)量已成為世界測(cè)量領(lǐng)域的研宄熱點(diǎn)?？紤]到測(cè)量范圍、精度、系統(tǒng)尺寸和工作環(huán)境等因素的影響，用小體積多自由度的測(cè)量方法來實(shí)現(xiàn)高精度測(cè)量在現(xiàn)代位移測(cè)量中的需求也越來越突出。在半導(dǎo)體加工領(lǐng)域，光刻機(jī)中的掩膜臺(tái)和工件臺(tái)的定位精度和運(yùn)動(dòng)精度是限制半導(dǎo)體芯片加工線寬的主要因素，為了保證掩膜臺(tái)和工件臺(tái)的定位精度和運(yùn)動(dòng)精度，光刻機(jī)中通常采用具有高精度、大量程...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。