技術編號：8283787
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。專利說明基板處理裝置本申請是申請?zhí)枮?010101322451、申請日為2010年03月16日、發(fā)明名稱為“基板處理裝置”的申請的分案申請。本發(fā)明涉及基板處理裝置，特別是涉及在處理室內設有加熱器，消除阻礙基板處理的主要原因的基板處理裝置。背景技術作為基板處理裝置，例如列舉出有半導體制造裝置、真空處理裝置、成膜處理裝置等，作為使用等離子體對基板進行處理的基板處理裝置，公知有等離子處理裝置。等離子處理裝置具有在內部產生等離子體的能減壓的處理室(室)，在該室內配...
注意：該技術已申請專利，請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權人授權前，僅供技術研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術人員進行技術研發(fā)參考以及查看自身技術是否侵權，增加技術思路，做技術知識儲備，不適合論文引用。