技術編號：8291024
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。近年來，環(huán)境污染問題日益加重，環(huán)境污染的治理和預防成為現(xiàn)今科學研宄的重點。染料廢水作為水體的主要污染源之一，具有COD濃度高，難降解有機物多，生物可降解性差等特點，此外，染料廢水中含有較多的鉻、錳、鎘、鈷、鎳、鉛、銅等重金屬離子。在處理染料廢水方面，半導體光催化技術處理效率高，不存在二次污染，操作簡單，處理成本低，被認為是一種極具前景的環(huán)境污染深度凈化技術。ZnO作為一種重要的寬禁帶半導體氧化物，室溫下禁帶寬度為3.37eV，激子束縛能為60meV，具有良...
注意：該技術已申請專利，請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權人授權前，僅供技術研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術人員進行技術研發(fā)參考以及查看自身技術是否侵權，增加技術思路，做技術知識儲備，不適合論文引用。