技術(shù)編號：8300456
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及半導(dǎo)體，具體涉及。背景技術(shù)隨著半導(dǎo)體制作工藝的演進，電子器件的尺寸逐漸縮減，為芯片帶來速度、集成度、功耗以及成本等方面的改善，但隨著電子器件的尺寸接近物理極限，芯片的功率密度也隨之提高，并且成為限制半導(dǎo)體工藝演進的瓶頸。為了能夠繼續(xù)獲得新工藝技術(shù)對芯片特性的提升，晶體管的功耗必須降低，其中降低晶體管功耗的最有效途徑是減小供電電壓，但由于金屬氧化物半導(dǎo)體場效應(yīng)晶體管(Metal Oxide Semiconductor Field Effect Tr...
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