技術(shù)編號：8385028
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。 在光刻工序中進行曝光處理，即利用曝光光照射光掩模，通過來自該光掩模的曝 光光對感光基板進行曝光。這樣的光掩?？梢酝ㄟ^在光掩模基板上形成規(guī)定的掩模圖案而 得到。 近年來，感光基板的大型化正推進，與此相伴光掩模尺寸也在推進大型化，例如對 于第八代以后的液晶面板用曝光裝置而言，使用了一個邊超過1.2m的大型光掩模。用于這 樣的大型（大面積）光掩模的光掩?；蹇梢匀缦轮圃斓玫揭岳弥苯臃ǖ葰庀喾ê铣?的圓柱狀Si0 2玻璃坯錠作為原材料，對其進行沖壓成型而制成平...
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