技術(shù)編號：8399101
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。 在基板表面上的薄膜沉積在多種工業(yè)中都是重要的工藝，這些工業(yè)包括半導體處 理、用于磁性讀取/寫入磁頭的電介質(zhì)以及擴散阻擋涂層。特別地，在半導體工業(yè)中，微型 化需要薄膜沉積的原子級控制，以于高深寬比結(jié)構(gòu)上產(chǎn)生保形涂層。 膜的一種重要類型是金屬碳化物。這些膜被結(jié)合于許多應(yīng)用中，包括柵極堆疊。一 些金屬碳化物工藝是已知的，包括沉積含有相對低鋁含量的膜的一些工藝。然而，目前還沒 有一種已知工藝可以沉積膜中包含相對高鋁濃度（level)的鋁碳化物膜。此外，因為外表 ...
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