技術編號：8426275
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。 本發(fā)明涉及半導體設備制造領域，具體地，涉及一種反應腔和一種包括該反應腔 的M0CVD設備。背景技術 M0CVD是金屬有機化合物化學氣相淀積（Metal-organic Chemical Vapor D印osition)的英文縮寫。MOCVD是在氣相外延生長（VPE)的基礎上發(fā)展起來的一種新型 氣相外延生長技術。它以III族、II族元素的有機化合物和V、VI族元素的氫化物等作為 晶體生長源材料，以熱分解反應方式在襯底上進行氣相外延，生長各種III-V族、I...
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