技術(shù)編號：8496611
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。目前真空濺鍍技術(shù)的應(yīng)用日漸廣泛，其中以連續(xù)式濺鍍設(shè)備(In-linesputtering apparatus)因?yàn)閾碛兴俣瓤?、產(chǎn)量高、鍍覆質(zhì)量優(yōu)良等優(yōu)點(diǎn)，且能大幅地降低生產(chǎn)成本，因此已廣泛地應(yīng)用于大量鍍膜的制程中。一般連續(xù)式濺鍍設(shè)備依序包含至少三個(gè)區(qū)域一進(jìn)料腔體區(qū)、一鍍膜腔體區(qū)，及一出料腔體區(qū)；其中，一待鍍物是被置于一傳送單元上的一承載盤上，以于上述腔體區(qū)內(nèi)或跨腔體區(qū)間傳輸，并由該出料腔體區(qū)輸出一在該待鍍物的一表面鍍覆有一鍍膜的成品。然而，于連續(xù)式濺鍍過程...
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