技術(shù)編號(hào)：8519957
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒(méi)有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。 本發(fā)明涉及稀有金屬冶煉領(lǐng)域，具體涉及提供一種微細(xì)鈮粉及其制備方法。背景技術(shù) 近年來(lái)，半導(dǎo)體技術(shù)飛躍發(fā)展，開(kāi)發(fā)出了各種各樣的電子裝置。其中要求電子裝置 的小型化，使集成程度提高，在很多工序上要采用薄膜形成工藝。鈮及其氧化物用作濺射膜 的需求量逐漸增加。鉬鈮合金靶，以及濺射靶具有高熔點(diǎn)、抗熱性好、導(dǎo)電性好等優(yōu)點(diǎn)。與 純鉬靶材相比，具有液晶顯示屏像素高，清晰度好的特點(diǎn)，因而市場(chǎng)需求很大。鉬鈮合金靶 多采用粉末冶金（P/M)方法，如中國(guó)專利（CN10314697...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。